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      脫氧脫氫提純設備Ⅰ

      本技術適用于氮氣、一氧化碳、二氧化碳、惰性氣體(氬、氦、氪、氙、氖氣等)、乙烯等氣體中除氧以獲取高純氣

      脫氧脫氫提純設備Ⅰ
      配置功能
      常規(guī)配置功能

      可編程序控制器自動化控制

      氮氣純度、流量在線監(jiān)測

      冷干機、過濾器自動排污

      可選配置功能

      備用氮氣自動補充、自動切換

      人機界面控制系統(tǒng)

      故障報警、自動關閉加氫電磁閥

      全自動開停機

      技術指標

      額定處理量:10-500Nm3/h

      工作溫度:300℃

      脫氫深度:≤1ppm

      原料氣氧含量:≤1000ppm

      脫氧深度:≤1ppm

      常壓露點 :≤-60℃(其他露點請咨詢)

      原理

      利用催化劑中的金屬低價氧化物與雜質(zhì)氧在加熱條件下直接發(fā)生氧化反應生成金屬高價氧化物,從而將雜質(zhì)氧除去。再在加熱條件下通入氫氣與產(chǎn)品混合氣,金屬高價氧化物與氫氣發(fā)生還原反應生成金屬低價氧化物,從而使催化劑再次具有與雜質(zhì)氧發(fā)生氧化反應的性能,進而采用干燥再進行除水。

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